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离子镀膜设备与工艺
采用等离子体离子刻蚀和离子镀膜技术相结合,在低温条件下,对复合材料表面制备功能涂层。功能涂层具备良好的介电特性,以及优异的基体结合性能。设备配置阳极层离子源、磁过滤等离子体源和伸缩磁控溅射源等专利技术,可对长度超过 3000mm 的产品进行功能涂层制备,设备采用全自动控制技术,可实现工艺和产品生产一键式操作。
磁控溅射镀膜系统
专用复合材料磁控溅射镀膜设备
真空离子镀膜设备
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