主要功能：
大型线性射频离子源实验平台是大型、先进、多用途离子束加工设备。该平台通过大型射频离子源提供的大面积均匀离子東轰击工件和靶材，利用离子束溅射效应、化学反应或者综合效应，可以实现对多种金属或非金属材料离子束清洗、离子東微细加工和真空离子末镀膜等加工。该平台具有加工精度高、可控性好，加工应力、热变形极小，洁净无污染等特点。该设备采用大型线性射频离子源与工件台扫描运动相结合的方式，可以实现对不同尺寸工件的加工，加工元件最小尺寸(长x宽)30mmx30mm,最大尺寸(长x宽)1000mmx600mm.
应用领域：
·半导体器件
·精密光学器件
·薄膜电路加工
·真空腔室:700mmx1200mmx1500mm
·极限真空:≤8x10-4Pa
·真空测量范围:1x105～5x10-1Pa
·大型线性射频离子源:射频功率0～2000W连续可调，离子東能量100～1500eV连续可调，束流强度200mA～1000mA连续可调，距离子源100mm处，束斑面积70～1000mm2，束流不均匀性小于±7%
·中和器系统:射频功率0～150W，最大能产生1.5A低能电子流
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