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复合离子注入机

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铅屏蔽箱体整体安装结构照片

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高能气体离子源(左上侧)、高能金属离子源(右上侧)

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移动式样品平台架(真空室内部)

技术参数

主要功能:利用高能离子束注入掺杂与基体相互作用,提升金属样品表面耐磨损、抗腐蚀性能,改变介质材料表层介电特性,改善聚合物材料表面性能,改变生物材料基因特性等。设备配置一套高能气体离子源和一套高能金属离子源,可实现不同气体离子和不同金属离子的单元素、多元素或混合元素注入。配置移动式加热和水冷样品平台,可对注入样品进行加热或冷却处理。适用于实验研究和小量样品试验。

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铅屏蔽箱体整体结构

外围几何尺寸:W3185mm×H2042mm×D1800mm,不包含风冷式水冷机组和空压机,噪音≤56dB。

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真空室

Φ600mm×800mm,卧式安装,单层304不锈钢,左上设置高能气体离子源、右上测设置高能金属离子源,真空室底部设置分子泵管道法兰接口、接真空抽气系统管道,前后两端平板门可全开、前后两端平板门中心设置观察窗;极限真空压强<2×10-4Pa,系统漏率<1×10-9Pam3/S,压升率<0.5Pa/h。

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高能气体离子源

10KeV~70KeV,束斑直径Φ100mm,在Φ100mm束斑直径范围内离子流可达5mA,离子束流不均匀性小于±15%;具有注入剂量检测和控制。

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高能金属离子源

加速电压10KeV~50KeV,束斑直径Φ100mm,在Φ100mm束斑直径范围内离子流可达5mA,离子束流不均匀性<±15%。具有阴极自动推进功能;具有注入剂量检测和控制;可精确控制注入时间(秒量级)。

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移动式样品平台架

直径Φ100mm,具有加热和冷却功能。可更换加热和冷却样品台台面。可前后平移定位于离子源正下方。在冷却工作方式下,样品台可通入冷却水(水温5℃~25℃,由冷水机控温)。在加热工作方式下,样品台用卤素灯加热,最高加热温度500℃,用温度控制仪调节温度,用热偶检测加热样品台背面温度。

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控制系统

PLC+触摸屏

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离子能量

≤100KeV

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离子剂量

≥1×1017/cm2 h

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离子类型

N、C、H、Ti、Ag……

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供电要求

三相五线制50Hz/60Hz、3×AC380V(±5%)-N+PE,功率15KVA。具备独立高压接地体,接地电阻≤1Ω

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环境要求

温度:0℃~40℃;湿度:<90%相对湿度,无冷凝水或结冰;冷却空气:不含腐蚀性蒸汽、颗粒、导电颗粒及吸潮后变成导电的颗粒;冷却水:配风冷式水冷机组,进水温度20℃~25℃,进出水压差0.15MPa~0.3MPa,冷却水应使用软化水避免结垢,冷却管道应连接牢固避免泄漏,工作时必须保持冷却水畅通。


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