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真空离子镀膜设备

主要功能:

采用等离子体离子刻蚀和离子镀膜技术相结合,在低温条件下,对类回转体复合材料表面制备电磁屏蔽功能涂层。功能涂层具备良好的介电特性,以及优异的基体结合性能。设备配置阳极层离子源、磁过滤等离子体源和伸缩磁控溅射源等,可对长度超过3000mm的产品进行功能涂层制备,设备采用全自动控制技术,可实现工艺和产品生产一键式操作。

技术参数

技术参数:

l真空室体:2000mm×3870mm

l 极限真空度:≤3×10-4Pa

l 薄膜沉积速率:2μm Al膜小于10小时

l 薄膜厚度公差:≤±15%

l 薄膜沉积温度:≤120°C

l 工件尺寸:≤ F1600mm×3200mm

地址:成都市双流区西航港大道中四段219号

邮编:610207

电话:028-82820926 028-82820927 028-82820929

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